탁상형 주사전자현미경-장비등록

광학,전자영상장비 탁상형 주사전자현미경

예약문의 032-850-0322

탁상형 주사전자현미경 Table SEM

시설장비활용번호Z-kitech-00198 시설장비등록번호NFEC-2014-11-193429 시설장비표준분류주사전자현미경

장비정보 Information

장비설명전자원으로부터 인가된 일차 전자가 시료에 조사되면서 이때 발생되는 후방산란 전자 (Backscattered Electorn)를 이용하여 시표 표면의 미세한 구조를 확대, 관찰하는 기기로서 일반 광학현미경과 비교하여 분해능과 집점심도가 우수하여 Sample의 표면 관찰은 물론 요철, 조성등을 별도의 금속코팅 없이 저진공 상태로 원형그대로 관찰함으로서 시료의 특성, 표면구조 및 결합을 관찰하는데 사용되는 분석기기이다.

구성 및 성능1. 전자현미경 본체 1세트 장치 분해능 SEI 이차 전자상 : 7.0nm at W.D 8mm 가속전압 : 600 eV to 20 KeV (선명한 이미지 구현 가능해야함/Continuous change가능) 전류 : 1 PA to 3uA 진공 시스템 : Turbo Molecular Pump & Rotary Pump 작업 가능 진공 : 5x10 -3 Pa 시료 교환 후 진공 뽑는 시간 : 3 minutes <1> 전자광학계 모드 분해능 모드 시료의 상을 저배율부터 고배율에서 사용 Magnification at 20kV/8mm WD : x 10 to x 100,000 (Max150,000) <2> 시료실 방 210mm ID x 190mm H 시료실 5축 시료실 이동거리 X = 40mm Y = 40mm Z = 40mm Tilt : 0˚ to 45˚ (Max 90˚) Rotation : 360˚ continuous Maximum specimen height : 35mm <3> 검출기 : 이차 전자 검출기 <4> 주사속도 60ns부터 각 pixel 별 단계적으로 혹은 지속적으로 조정 <5> Energy Dispersive Spectroscopy :원소 분석 장치 1세트 (1) 디텍터 1) LN2 free silicon Drift X-Ray Detector : 129eV 이하 2) Point&Line Scan, Phase Analysis & Particle Analysis 3) Spectrum Matching Analysis S/W 4) Automatic Analysis Applicable Function

사용/활용예시표 표면의 미세한 구조를 확대, 관찰하는 기기로서 다양한 재료의 표면, 단면, 요철 및 조성 관찰
- 금속 및 비금속 시료의 표면형상 분석
- 재료의 구성원소 분석
- 재료의 미세조직 분석